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磁気シールについて - 株式会社モアテック

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磁気シールについて

磁気シールについてAbout magnetic fluid feedthrough

スパッタ装置

カテゴリ: 応用例 公開日:2017年12月26日(火)

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スパッタリングとは放電によって出来たプラズマのなかのイオンを加速して材料にぶつけ、材料から叩き出された原子によって基板に膜を形成する方法です。
真空蒸着よりも緻密で高精度な薄膜を再現性よく形成する事が可能です。

PVD装置

カテゴリ: 応用例 公開日:2017年12月26日(火)

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PVD(Physical Vapor Depositionの略で、物理蒸着法の意味)コーティングは、比較的低温(400~600°C)で形成されます。この工程では、金属を蒸発させ、物質の表面にコーティングを形成します。 
 

CVD装置

カテゴリ: 応用例 公開日:2017年12月26日(火)

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CVDとはChemical Vapor Depositionを省略した言葉で、日本語で化学気相成長と言います。 (chemical:化学的な vapor:蒸気・気化物質 deposition:堆積・沈殿)さまざまな物質の薄膜を形成する蒸着法のひとつで、切削工具の表面処理や半導体素子の製造工程において一般的に使用されています。
 

イオン注入装置

カテゴリ: 応用例 公開日:2017年12月26日(火)

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イオン注入は、物質のイオンを固体に注入する加工方法です。イオン注入は固体の特性を変化させる点で、半導体の生産に使用され、金属の表面処理など様々な分野で応用化されています。イオン注入は、対象の物質と別の元素を注入することにより、物質に化学的変化を与えると同時に、物質の破損または破壊など、構造的な変化も与えます。
 

真空熱処理炉

カテゴリ: 応用例 公開日:2017年12月26日(火)

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真空熱処理炉とは、チャンバ内の空気を排気し、真空状態で熱処理を行う装置です。加熱時にワークが酸化しない、前工程で塗装を行っている場合には脱泡処理ができ、加熱ムラなどを防止できるなどのメリットがあります。加工物の歪みも抑止できます。
 

真空ロボット

カテゴリ: 応用例 公開日:2017年12月26日(火)

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真空ロボットは、真空環境下での搬送作業を可能とするクリーンロボットです。
 

単結晶引き上げ装置

カテゴリ: 応用例 公開日:2017年12月26日(火)

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シリコンウェハーの材料となる単結晶インゴットを製造する装置です。


 

磁気シールとは?

カテゴリ: 磁気シールの特性 公開日:2017年12月04日(月)

磁気シールとは?

磁気シールは、磁石によって引き寄せられる磁性流体を利用して密封する、回転運動用のシールユニット製品です。

 

高速回転しながら気体、蒸気、ミストなどを完全に遮断します。

磁性流体とは?

カテゴリ: 磁性流体について 公開日:2017年12月04日(月)

磁性流体とは?

磁性流体とは、液体でありながら鉄のように磁石に引き寄せられる磁気応答性を示す流体です。

 

磁性流体は1960年代の初め、NASAのアポロ計画の中で、宇宙服の可動部のシール材や無重力環境でのロケットエンジンへのポンプなしで液体燃料を移送する技術等の開発の中で生まれました。

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