スパッタ装置
カテゴリ: 応用例
公開日:2017年12月26日(火)
スパッタリングとは放電によって出来たプラズマのなかのイオンを加速して材料にぶつけ、材料から叩き出された原子によって基板に膜を形成する方法です。
真空蒸着よりも緻密で高精度な薄膜を再現性よく形成する事が可能です。
PVD装置
カテゴリ: 応用例
公開日:2017年12月26日(火)
PVD(Physical Vapor Depositionの略で、物理蒸着法の意味)コーティングは、比較的低温(400~600°C)で形成されます。この工程では、金属を蒸発させ、物質の表面にコーティングを形成します。
真空熱処理炉
カテゴリ: 応用例
公開日:2017年12月26日(火)
真空熱処理炉とは、チャンバ内の空気を排気し、真空状態で熱処理を行う装置です。加熱時にワークが酸化しない、前工程で塗装を行っている場合には脱泡処理ができ、加熱ムラなどを防止できるなどのメリットがあります。加工物の歪みも抑止できます。
磁気シールとは?
カテゴリ: 磁気シールの特性
公開日:2022年04月07日(木)
磁気シールは、磁石によって引き寄せられる磁性流体を利用して密封する、回転運動用のシールユニット製品です。
高速回転しながら気体、蒸気、ミストなどを完全に遮断します。
磁性流体とは?
カテゴリ: 磁性流体について
公開日:2017年12月04日(月)
磁性流体とは、液体でありながら鉄のように磁石に引き寄せられる磁気応答性を示す流体です。
磁性流体は1960年代の初め、NASAのアポロ計画の中で、宇宙服の可動部のシール材や無重力環境でのロケットエンジンへのポンプなしで液体燃料を移送する技術等の開発の中で生まれました。