応用例 - 株式会社モアテック

スパッタリングとは放電によって出来たプラズマのなかのイオンを加速して材料にぶつけ、材料から叩き出された原子によって基板に膜を形成する方法です。
真空蒸着よりも緻密で高精度な薄膜を再現性よく形成する事が可能です。

シリコンウェハーの材料となる単結晶インゴットを製造する装置です。