PVD装置 - 株式会社モアテック

物理気相成長(Physical Vapor Deposition)は、薄膜の原料として固体減量を用い、それを熱やプラズマのエネルギーで気化し、基板上で薄膜化する方法です。熱エネルギーを用いて蒸着させようとする物質を加熱蒸発させて、非熱平衡的に表面をコーティングする真空蒸着と、分子線エピタキシー、それに蒸発粒子をイオン化するイオンプレーティング法、そしてグロー放電プラズマを用い、セラミック薄膜の堆積もできるスパッタリング法が多く使われています。