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イオン注入装置

カテゴリ: 応用例 公開日:2017年12月26日(火)

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イオン注入とはイオン化した物質を固体に注入することによって、その固体の特性を変化させる加工方法です。
半導体製造における前工程などでは、イオン注入を用いることによって、ウェハに適度な不純物を導入することができ、半導体デバイス特性を向上させることができます。

半導体材料の電気的特性を制御するためのプロセスに使われることが多く、通常は、発生するイオンビームのビーム量及びエネルギーによって、中電流イオン注入装置、大電流イオン注入装置、高エネルギーイオン注入装置に分類されます。

このようなイオン注入装置にも、モアテックの磁性流体シールは数多くの実績がございます。高速回転等にも対応可能ですので、お気軽に弊社営業までお問い合わせ下さい。

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